- 무어의 법칙 (Moor's Law)
IC 칩은 트렌지스터, 캐패시터, 다이오드 등 여러 디바이스가 집적된 칩이다.
무어의 법칙은 인텔의 고든 무어가 IC 칩의 성능이 24개월마다 2배로 증가한다는 이론이다.
아래 그래프를 보면 x축은 연도, Y축은 Die 1개 당 Tr. 갯수를 뜻한다.
- '무어의 법칙'의 한계
공정이 점차 세밀해질 수록 집적도 증가는 한계에 부딪힌다.
특히 회로가 너무 세밀해져 전자가 turnneling 현상이 발생하며, 작은 면적에 수많은 tr.들을 집적하다 보니 칩의 발열 및 power consumption 증가 등의 문제가 발생한다.
또한 28nm 이하로 세밀해질수록 공정 비용이 급격히 증가하여 tech를 개발할 수록 필요한 비용이 급격히 증가하게 된다
- The next is ?
공정 미세화와 집적도의 한계를 극복하기 위해 아래와 같은 다양한 시도들이 진행되고 있다.
CNT (탄소나노튜브), HfO2 등 소재개발을 통한 극복
양자컴퓨터
3D Packaging (HBM, High Bandwith Memory)을 통한 집적도 확보
다진법 회로 적용
'반도체 study' 카테고리의 다른 글
ESD Model (HBM, MM, CDM) (0) | 2023.06.01 |
---|---|
ESD Protection Mechanism, Difference between ESD & Surge (0) | 2023.06.01 |